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Bézier 曲面的表示形式在很大程度上决定了渲染和离散的结果质量. 为了改进曲面等参线的正交性, 给出了双线性Bézier 曲面和双二次Bézier 曲面满足曲面等参线正交性的约束条件, 以及相应曲面的构造方法. 首先提出了具备正交等参线的双线性曲面只能是矩形; 对于双二次Bézier 曲面, 通过将正交约束多项式的系数设置为0, 整理推导出控制顶点需要满足的约束条件, 再对每一组约束条件给出满足此约束条件的曲面构造性方法, 得到在渲染和离散中的应用结果. 纹理映