【摘 要】
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采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、光致发光光谱（PL）、紫外-可见光光
【机 构】
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中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室
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采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、光致发光光谱（PL）、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO（002）择优取向,退火使ZnO（002）衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增
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