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注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究
注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究
来源 :核工业西南物理研究院年报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tytytytytytytytytyty
【摘 要】
:
硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱(XPS)和热解释谱(TDS)方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘
【作 者】
:
王明旭
H.Miyauchi
T.Nakahata
Y.Ni
【机 构】
:
不详,日本静冈大学、理学部放射化学研究室,日本东京大学放射同位素中心,日本核融合研究所、聚变工程研究中心
【出 处】
:
核工业西南物理研究院年报
【发表日期】
:
2004年1期
【关键词】
:
硼膜
涂层
聚变堆
涂层材料
X射线电子能谱
热解释谱
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硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱(XPS)和热解释谱(TDS)方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘的行为。
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