【摘 要】
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分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了TiN涂层,采用X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所,兰州大学
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分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了TiN涂层,采用X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度;在DF-PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能.结果表明:与采用直流磁控溅射法在400 ℃基底上制备的TiN涂层相比,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的TiN涂层更加致密,表面平滑,最大硬度达35 GPa,摩擦系数明显较小(0.1~0.4),耐磨性较好.
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