Effect of Rapid Thermal Process on Oxygen Precipitates in Heavily Sb-Doped Silicon Wafer

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Oxygen precipitates in heavily Sb-doped silicon after rapid thermal process (RTP) in Ar ambient were investigated by RTP at high temperature following annealing at 800 ℃ for 4 h and 1000 ℃ for 16 h. RTP temperature and cooling rates were changed from 1200
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