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Ni/Sn 夫妇,准备了由顺序使硬化的 Si 晶片上的 electroplating Ni 层和 Sn 层,被采用学习微观结构和 Ni-Sn 中间的阶段的生长动力学, Ni/Sn 夫妇是什么时候,在各种各样的时间从 150 ~ 225 在温度在房间温度或 armealed 变老。分别地, NiSn 阶段和 Ni3Sn4 分阶段执行的结果表演在年老的夫妇被形成并且退火夫妇。Ni3Sn4 层连续地在退火的 Ni/Sn 夫妇在 Ni 和 Sn 方面之间被散布。Ni3Sn4 生长与 39.0 kJ/mol 的一个