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荧光发射强度在荧光显微术科学观测中至关重要。理论分析了三大影响荧光发射强度的重要因素：分子吸收激发光光子的能力、荧光量子产量及其荧光饱和与荧光猝灭，指出选择具有大光吸收截面和高量子产量的荧光分子，能有效保证荧光发射强度；确定合理的激发光强度范围，可避免不必要的荧光饱和现象。进一步实验研究了超高真空和大气环境下的荧光猝灭现象，得出超高真空时荧光分子的荧光猝灭现象极不明显，而大气环境可造成荧光光强指数递减的结论。‘