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期刊论文
VAD制备TiN膜中宏观颗粒生长特性分析
VAD制备TiN膜中宏观颗粒生长特性分析
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:q7okl
【摘 要】
:
通过对真空电弧淀积的TiN薄膜中单个宏观颗粒进行SEM观察,分析了颗粒自身形貌及其与连续薄膜之间的相互作用。并基于界面能量理论,分析了颗粒膜生长过程中自身发展倾向、与外来粒子的
【作 者】
:
王浩
【机 构】
:
北京大学重离子物理研究所
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
氮化钛薄膜
薄膜生长
VAD
vaccum arc deposition
TiN film
film growth
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通过对真空电弧淀积的TiN薄膜中单个宏观颗粒进行SEM观察,分析了颗粒自身形貌及其与连续薄膜之间的相互作用。并基于界面能量理论,分析了颗粒膜生长过程中自身发展倾向、与外来粒子的相互碰撞以及与基片、连续膜之间的界面作用,从而揭示出薄膜中颗粒的生长规律。
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