射频溅射薄膜改善氮化铝陶瓷与金属连接性研究

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本文介绍了一种改善氮化铝(AlN)陶瓷与金属连接性的新工艺方法。首先采用射频溅射在AlN陶瓷表面沉积铝、钛薄膜,然后用真空钎焊和扩散焊实现经表面改性的AlN陶瓷与Cu和FeNi42等金属的连接。由于射频溅射于射频溅射的Al、Ti薄膜改善了AlN陶瓷与金属的润湿性,所以AlN/金属的结合强度明显提高。通过对结合界面的显微形貌结构分析以及接头应力计算,阐明了采用功能梯度材料(FGM)过渡层可以进一步改善AlN/金属的连接性。
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