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采用聚甲基苯乙基硅烷－酚醛酯脂双层工艺，用３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光作曝光光源，经Ｏ２等离子体处理，实现了亚微米图形尺寸的转移。
聚硅烷—一种新亚微米高分辨光致蚀刻剂
【摘 要】
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采用聚甲基苯乙基硅烷－酚醛酯脂双层工艺，用３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光作曝光光源，经Ｏ２等离子体处理，实现了亚微米图形尺寸的转移。
【机 构】
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物理系
【出 处】
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四川大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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1998年4期
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