【摘 要】
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应用DSC、半导体气敏特性、催化活性及亚单(分子)层分散模型共四项表征技术,进一步研究了五种二元氧化物的界面结构及其特性.DSC曲线的放热峰及吸热峰分别与界面化学反应、晶
【机 构】
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黑龙江大学化学化工学院,哈尔滨师范大学表面化学研究所
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应用DSC、半导体气敏特性、催化活性及亚单(分子)层分散模型共四项表征技术,进一步研究了五种二元氧化物的界面结构及其特性.DSC曲线的放热峰及吸热峰分别与界面化学反应、晶格畸变和瓦解、熔化、烧结以及固溶体的形成相关.导电性能的测试证明这些二元氧化物属于N-型半导体,对邻二甲苯具有气敏特性,其灵敏度在化学吸附的初期阶段与邻二甲苯蒸气浓度呈线性关系.催化选择性及转化率的测定证明V2O52MoOs及WO3-MoOs体系对邻二甲苯选择性氧化为苯酐具有催化活性,其非晶相MoOs及V2O5的活性较为显著,尤其当二元氧
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