论文部分内容阅读
该文研究了一种新型的二氧化硅磨擦剂成分,可以用于含有水溶性氟化物、祛斑剂、杀菌剂的药物牙膏中,这种磨擦剂包含小分子结构的二氧化硅结构,与约10^-5-3×10^-4浓度的碱土金属离子反应,最好是铝。磨擦剂中含硫酸根离子低于0.25%,pH值调到4.0-7.5。该文中还提供了这种新型磨擦剂的制备方法及含这种磨擦剂的牙膏配方。