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采用Cl2/CH4/N2感应耦合等离子体对InP进行了刻蚀.系统地讨论了RF功率、ICP功率、反应腔压力、气体流量等工艺参数对InP材料端面刻蚀的影响.通过优化工艺参数,获得了光滑垂直的InP刻蚀端面,刻蚀速率达到841 nm/min,与SiO2的选择比达到15：1.
感应耦合等离子刻蚀InP工艺
【摘 要】
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采用Cl2/CH4/N2感应耦合等离子体对InP进行了刻蚀.系统地讨论了RF功率、ICP功率、反应腔压力、气体流量等工艺参数对InP材料端面刻蚀的影响.通过优化工艺参数,获得了光滑垂直
【机 构】
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武汉光迅科技股份有限公司
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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2007年3期
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划(973)资助项目(No.2003CB314903)
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