Defects and Electron Densities in TiAl-based Alloys Containing Mn and Cu Studied by Positron Annihil

来源 :材料科学技术:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:long200466
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The defects and electron densities in Ti50Al50, Ti50Al48Mn2 and Ti50Al48Cu2 alloys have been studied by positron lifetime measurements. The results show that the free electron density in the bulk of binary TiAl alloy is lower than that of pure Ti or Al me
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