【摘 要】
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Amorphous silicon films prepared by PECVD on glass substrate have been crystallized by conventional furnace annealing and rapid thermal annealing(RTA), respecti
【机 构】
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Key Laboratory of Material Physics for Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052
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Amorphous silicon films prepared by PECVD on glass substrate have been crystallized by conventional furnace annealing and rapid thermal annealing(RTA), respectively. From the Raman spectra, X-ray diffraction and scanning electron microscope, it is found that the grain size is crystallized at 850℃ in both techniques. The thin film made by RTA is smooth and of perfect structure, the thin film annealed by FA has a highly structural disorder. An average grain size of about 30nm is obtained by both techniques.
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