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采用偏轴磁控溅射法在玻璃基底上制备了70 nm、140 nm和210 nm厚度的Ni-Nb薄膜。利用紫外-可见分光光度计、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的光学特性,晶体结构和表面形貌进行了表征与分析。投射和反射光谱表明140 nm厚度的Ni-Nb薄膜具有优异的光学性能。XRD结果表明Ni-Nb薄膜为非晶态结构。AFM图片显示出Ni-Nb薄膜均匀致密,均方粗糙度仅为1.70 nm。