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一、前言离子注入法是向固体中加入粒子的方法之一,是将要加入的粒子在真空(约10-8mmHg)中离子化,并借助静电场加速后照射在固体基板上的方法。这一方法在制作半导体元件中,作为高精度、高控制的杂质添加法占有重要地位。这种粒子添加法,由于是利用了固体和离子束的相互作用的非热平衡过程,因此认为是包括金属在内的许多材料的表层复合化和多功能化的起点。