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镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术，本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备，测试了源的Ｉ－Ｖ发射特怀曲线，ｄＩ／ｄＶ≈０．０５（μＡ／Ｖ），进行了新旧工艺下电流发射稳定度的比较，最佳源发射稳定度大于９５％，寿命大于１０００小时。
镓液态金属离子源的制备
【摘 要】
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镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术，本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备，测试了源的Ｉ－Ｖ发射特怀曲线，ｄＩ／ｄＶ≈０．０５（μＡ／Ｖ），进行了新旧工艺下电流发射稳定度
【机 构】
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清华大学电子工程系
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1998年3期
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