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利用永磁型阴极磁控溅射系统，以直流磁控方式在纯Ar气和Ar+N2气工作气氛中溅射制备了FeCoV薄膜，研究了Fe49Co49V2靶的厚度、N2／Ar流量比与沉积率之间的关系以及N2／Ar流量比对薄膜微观结构的影响。研究结果表明，该薄膜在低温抑制型模式下生长，晶粒大小主要决定于形核率和岛状微晶的生长，当工作气体中引入N2气后，具有活性的N原子与溅射原子一起沉积到薄膜生长表面，通过减缓或阻止微晶生长、接合，对FeCoV薄膜的晶粒起到了显著的细化作用。