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提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法，用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录，再用卤化银明胶处理技术，把灰度银像转化成明胶硬度潜像，最后采用酶蚀显影工艺把潜像显现为连续沟形的浮雕结构，文中给出了原理分析和实验验证，初步结果令人满意。
制作连续沟形微光学元件的新方法
【摘 要】
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提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法，用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录，再用卤化银明胶处理技术，把灰度银像转化成明胶硬度潜像，最后采用酶蚀显影工艺把潜像
【机 构】
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激光师范大学信息光学研究所,四川大学信息光学研究所
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1997年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金,浙江省教委科研基金
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