【摘 要】
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完美晶体是改善器件特性和提高成品率的重要基础之一。然而,在器件工艺中,常常产生许多晶体缺陷。这些缺陷,有的来源于原始材料,有的来源于工艺污染,也有的来源于热处理过程
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完美晶体是改善器件特性和提高成品率的重要基础之一。然而,在器件工艺中,常常产生许多晶体缺陷。这些缺陷,有的来源于原始材料,有的来源于工艺污染,也有的来源于热处理过程中引入的
The perfect crystal is one of the important foundations to improve device characteristics and yield. However, many crystal defects often occur in device processes. These defects, some from the original material, some from the process of pollution, but also from the introduction of heat treatment process
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