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研制光隔离器,关键技术之一在于经抛光后的法拉第旋光片在饱和磁化条件下,其磁偏角必须为45°。否则,隔离度将严重下降。本文给出了测量其磁偏角的测试系统。精度较高,且外加磁场强度连续可调,以满足具有不同饱和磁化条件的各种法拉第旋光材料的测试。
光隔离器法拉第旋光材料磁偏角的测量
【摘 要】
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研制光隔离器,关键技术之一在于经抛光后的法拉第旋光片在饱和磁化条件下,其磁偏角必须为45°。否则,隔离度将严重下降。本文给出了测量其磁偏角的测试系统。精度较高,且
【机 构】
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机械电子部第34研究所
【出 处】
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光通信技术
【发表日期】
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1989年3期
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