【摘 要】
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计算机硬磁盘涂层表面的精密加工,是磁盘工艺的重要组成部分。随着磁盘存储容量的增加,要求磁盘涂层表面的粗糙度Ra为0.015～0.025μm,表面最大凸出高度R_(max)为0.2～0.25μm。
【机 构】
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清华大学,清华大学,清华大学,清华大学,
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计算机硬磁盘涂层表面的精密加工,是磁盘工艺的重要组成部分。随着磁盘存储容量的增加,要求磁盘涂层表面的粗糙度Ra为0.015～0.025μm,表面最大凸出高度R_(max)为0.2～0.25μm。一、磁盘涂层表面精密加工概况近年来国内一些磁盘研制单位,一般采用呢绒、毛毡、绸布等软材料抛光磁盘涂层表面,如图1、2、3所示。这三种抛光方式的缺点是:1)加工后的盘片
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