【摘 要】
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Albany纳米科技与工程学院(CNSE)及欧洲比利时微电子中心IMEC日前宣布,将就深紫外光刻(EUVL)实验展开合作,来加速产业化应用。另外,来自IBM及ASML的资深工程师也将参与其中.
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Albany纳米科技与工程学院(CNSE)及欧洲比利时微电子中心IMEC日前宣布,将就深紫外光刻(EUVL)实验展开合作,来加速产业化应用。另外,来自IBM及ASML的资深工程师也将参与其中.最初阶段的实验将在Albany纳米研发中心进行,以后会在CNSE及IMEC两处联合展开。
Recently, Albany Institute of Nanotechnology and Engineering (CNSE) and European microelectronics center IMEC announced that they will cooperate on deep ultraviolet lithography (EUVL) experiments to accelerate industrialization. In addition, senior engineers from IBM and ASML will also be involved.The initial phase of the experiment will be conducted at the Albany Nano R & D Center and will be co-located at CNSE and IMEC later.
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