【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在Ni基高温合金拉伸件上制备Ni Cr Al Y薄膜应变计。研究了热稳定处理对Ni Cr Al Y薄膜结构、表面形貌的影响,并且测试了Ni Cr Al Y薄膜应变计的电学与应
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
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采用射频磁控溅射法在Ni基高温合金拉伸件上制备Ni Cr Al Y薄膜应变计。研究了热稳定处理对Ni Cr Al Y薄膜结构、表面形貌的影响,并且测试了Ni Cr Al Y薄膜应变计的电学与应变性能。结果表明:热稳定处理后Ni Cr Al Y薄膜应变计由于在表面形成了一层Al2O3膜,具有抗高温氧化的特性,在室温~800℃范围内,应变计电阻同温度呈线性变化,电阻温度系数(TCR)约为290×10^-6/℃,室温下的应变计系数(GF)为2.1。
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