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综述了各种沉积奈件对磁控溅射技术生长氮化铝薄膜的微观结构，电学以及光学性能的影响。采用磁控溅射技术，可以选用在适当的条件下制备具有特定功能与结构优良的氮化铝薄膜。
磁控溅射法制备AlN薄膜的研究进展
【摘 要】
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综述了各种沉积奈件对磁控溅射技术生长氮化铝薄膜的微观结构，电学以及光学性能的影响。采用磁控溅射技术，可以选用在适当的条件下制备具有特定功能与结构优良的氮化铝薄膜。
【机 构】
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南京航空航天大学材料科学与技术学院
【出 处】
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山东陶瓷
【发表日期】
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2006年6期
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