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研究了一种新型的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形转移,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,可突破传统光刻工艺的分辨率极限.论述了热压雕版压印工艺及其设备.实验表明,该工艺同时还具有高效率、低成本、大深宽比等优点.
纳米压印光刻技术的研究
【摘 要】
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研究了一种新型的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形转移,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,
【机 构】
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华中科技大学
【出 处】
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华中科技大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2004年12期
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