基体偏压对磁控溅射AlSn20镀层组织形貌与性能的影响

来源 :特种铸造及有色合金 | 被引量 : 0次 | 上传用户:langjitianya198411
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采用非平衡磁控溅射在铝基轴承合金表面制备了A1Sn20镀层,分析不同基体偏压对AISn20镀层的组织形貌、硬度、膜基结合力、摩擦因数等的影响。结果表明,非平衡磁控溅射AISn20镀层,基体偏电压在-60~-120V范围内,镀层呈层状生长,随着基体偏电压增大,镀层由粗大结构向细晶结构变化,镀层硬度与基体偏电压成反比,当偏电压为-120V时,镀层硬度(HV0.025)最高为80,镀层与基体结合力最高可达35N,镀层的摩擦因数最低为0.15。
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