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期刊论文
磁控溅射Cr—Si薄膜的工艺研究
磁控溅射Cr—Si薄膜的工艺研究
来源 :微处理机 | 被引量 : 0次 | 上传用户:CNXF
【摘 要】
:
本文对微电子固体薄膜结构,以及影响薄膜电阻导电性和稳定性的因素进行了研究和分析。实验数据和电路应用实例表明:Cr-Si薄膜电阻是一种良好的材料,它具有高电阻率,低温度漂移系数,高稳
【作 者】
:
丁春志
董岩
【机 构】
:
电子工业部东北微电子研究所
【出 处】
:
微处理机
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
磁控溅射
薄膜
Cr-Si薄膜
半导体集成电路
magnetic sputter
film
resistor
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本文对微电子固体薄膜结构,以及影响薄膜电阻导电性和稳定性的因素进行了研究和分析。实验数据和电路应用实例表明:Cr-Si薄膜电阻是一种良好的材料,它具有高电阻率,低温度漂移系数,高稳定性,无寄生效应高,高匹配精度等特性。
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