【摘 要】
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用N_2物理吸附、紫外漫反射光谱和低温氧化学吸咐方法,考察了Mo/Al_2O_3中Mo物种在Al_2O_3上沉积情况和化学结构以及硫化后的变化。发现MoO_3含量低于10％时,Mo物种呈不饱和单
【机 构】
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中国科学院大连化学物理研究所,北京燕山石油化工公司研究院
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用N_2物理吸附、紫外漫反射光谱和低温氧化学吸咐方法,考察了Mo/Al_2O_3中Mo物种在Al_2O_3上沉积情况和化学结构以及硫化后的变化。发现MoO_3含量低于10％时,Mo物种呈不饱和单分子层,以Mo[T]物种为主;大于10％后,逐渐出现多层沉积,Mo[O]物种增多。硫化后样品有扩孔现象发生,其程度与MoO_3含量成反比。低温氧化学吸附结果表明,Mo[T]物种易于形成不饱和配位的Mo离子(CUS),这种物种同γ-Al_2O_3的相互作用及它的还原性都与CUS的形成有一定关系。
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