【摘 要】
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随着集成电路技术的发展,集成度要求越来越高。为了得到高精度的光刻图形,必须适当的选择腐蚀液。我们试用优选法对3∶6∶10腐蚀液进行了选择试验,现将初步结果概述如下:
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随着集成电路技术的发展,集成度要求越来越高。为了得到高精度的光刻图形,必须适当的选择腐蚀液。我们试用优选法对3∶6∶10腐蚀液进行了选择试验,现将初步结果概述如下:
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