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采用双离子束技术制备Ｚｒ—Ｏ薄膜，由氩离子溅射沉积锆的同时进行氧离子辐照，对形成的Ｚｒ－Ｏ薄膜进行了ＲＢＳ及ＸＰＳ分析．结果表明，形成膜均由三部分组成：表面的碳沾污层，Ｚｒ－Ｏ体部分及膜与基体的界面过渡层．改变氧离子束流密度，膜体部分的Ｏ／Ｚｒ原子比值由０升至２．３。碳沾污层及过渡层的厚度并不随氧离子束流的增加而变化。不同Ｏ／Ｚｒ比值膜的锆氧化物通过Ｚｒ的化学位移测量进行了鉴定。