【摘 要】
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介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的
【机 构】
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浙江工业大学教育科学与技术学院; 浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室; 湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心;
【基金项目】
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国家自然科学基金重点资助项目(50535040)
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介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足。
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