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将高浓度含氟废水处理到１０ｍｇ／Ｌ较容易，但进一步处理到３ｍｇ／Ｌ以下就比较困难，本文报道了将半导体厂含氟废水用药剂混凝法处理到３ｍｇ·Ｌ＾－１以下的方法，一系列实验结果表明，ｐＨ是影响除氟的最主要的因素。
半导体厂含氟废水的深度处理
【摘 要】
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将高浓度含氟废水处理到１０ｍｇ／Ｌ较容易，但进一步处理到３ｍｇ／Ｌ以下就比较困难，本文报道了将半导体厂含氟废水用药剂混凝法处理到３ｍｇ·Ｌ＾－１以下的方法，一系列实验结果表明，ｐＨ是影响除氟的最主要的因素
【机 构】
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华南理工大学应用化学系
【出 处】
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环境工程
【发表日期】
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1994年6期
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