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提出一种ＩＣ缺陷特征的提取算法，该算法能自动检测的ＩＣ缺陷的位置、在预处理阶段，利用形态开运算消除小缺陷和背景噪音，对开后的结果图像进行形态腐蚀，获得冗余物型缺陷的位置特征，实验证明了该算法的正确性，该结果为计算机自动检测ＩＣ起初缺陷提供了有效的途径。
集成电路制造中真实缺陷位置的提取方法
【摘 要】
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提出一种ＩＣ缺陷特征的提取算法，该算法能自动检测的ＩＣ缺陷的位置、在预处理阶段，利用形态开运算消除小缺陷和背景噪音，对开后的结果图像进行形态腐蚀，获得冗余物型缺陷的位置特征，实验
【机 构】
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西安电子科技大学应用数学系,西安电子科技大学计算机学院
【出 处】
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西安电子科技大学学报
【发表日期】
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1999年4期
【基金项目】
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西安电子科技大学科研基金,北京大学视觉与听觉信息处理实验室开放课题基金
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