【摘 要】
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介绍了分子电镀的一种新用途,即利用电镀的方法对放射性核素镅进行电沉积。电镀溶液;电镀电流;电镀时间是对其沉积率的几个影响因素。提出获得镅的电沉积可以通过将少量镅的
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介绍了分子电镀的一种新用途,即利用电镀的方法对放射性核素镅进行电沉积。电镀溶液;电镀电流;电镀时间是对其沉积率的几个影响因素。提出获得镅的电沉积可以通过将少量镅的硝酸溶液(10μL)加入15%硫酸钠溶液(10mL)中,电镀30min,调电压至7V,电流0.5A的条件下获得。
Introduced a new use of molecular plating, that is, the use of electroplating method of radionuclide 镅 electrodeposition. Plating solution; Plating current; Plating time is several influencing factors on its deposition rate. The proposed electrodeposition was obtained by adding a small amount of nitric acid solution (10 μL) into a 15% sodium sulfate solution (10 mL), plating for 30 min, adjusting the voltage to 7 V and a current of 0.5 A.
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