【摘 要】
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本文叙述一种新型照相法——“PD”照相法,在我们研制工作中,采用的光敏材料是4-二甲氨基-3.5-二氯苯重氮特丁基硫化物,载体为聚乙稀醇(PVA),基片为通用的1.5～2毫米厚的制版玻
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本文叙述一种新型照相法——“PD”照相法,在我们研制工作中,采用的光敏材料是4-二甲氨基-3.5-二氯苯重氮特丁基硫化物,载体为聚乙稀醇(PVA),基片为通用的1.5～2毫米厚的制版玻璃。采用紫外曝光,并经高速稳定的物理显影液处理,已复印出条宽为1微米的光掩模,经光刻试验,基本上达到实用。
This article describes a new photographic method - “PD” photographic method, in our research and development work, the photosensitive material used is 4-dimethylamino-3.5-dichlorobenzene diazo-butylteth sulfide, the carrier is polyethylene Alcohol (PVA), the substrate for the general 1.5 ~ 2 mm thick plate glass. UV exposure, and high-speed stable physical developer solution has been copied out of a width of 1 m photomask, the lithography test, basically reached practical.
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