PECVD沉积微晶硅薄膜过程中氢原子对透明导电膜的影响

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Intoyou

【摘要】

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研究了等离子体放电过程中氢原子对单层SnO2和SnO2/ZnO双层透明导电膜的影响.发现当衬底温度超过150℃,H等离子体处理使SnO2薄膜的透光率显著降低.当在SnO2薄膜表面沉积一层Z

【作者】

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陈永生汪建华卢景霄杨根郜小勇杨仕娥

【机构】

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郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室,中国科学院等离子体物理研究所,武汉化工学院材料科学与工程学院

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2007年7期

【关键词】

：

透明导电氧化物氢化微晶硅 H等离子体退化 TCO hydrogenated microcrystalline silicon hydrogen plasm

【基金项目】

：

国家重点基础研究发展规划资助项目（批准号：2006CB202601）

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研究了等离子体放电过程中氢原子对单层SnO2和SnO2/ZnO双层透明导电膜的影响.发现当衬底温度超过150℃,H等离子体处理使SnO2薄膜的透光率显著降低.当在SnO2薄膜表面沉积一层ZnO时,既使ZnO膜的厚度为50nm,也可有效地抑制H原子对SnO2的还原效应,并在SnO2/ZnO双层膜上制备了转换效率为3.8%的微晶硅薄膜太阳电池.

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