化学镀镍过程的动电位及循环伏安研究

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化学镀镍是一个采用合适的还原剂(如次磷酸钠)使镍离子在某催化界面上可控地自催化还原的过程,所生成的膜层附着良好,应用广泛。以次磷酸盐作为还原剂时,化学镀镍的沉积速率通常低于20μm/h,故研究了在有少量硫脲或其衍生物作为加速剂的争件下,次磷酸盐体系中镍的化学沉积过程。通过动电位阴、阳极极化和循环伏安研究,评价了镀覆过程中各种加速剂的性能。结果表明,所研究的硫化物都有明显的阳极去极化作用。各种加速剂性能的优劣顺序为:甲基硫脲〉N,N'-乙烯硫脲〉烯丙基硫脲〉乙酰硫脲〉对甲苯基硫脲〉硫脲〉二苯基硫脲。此外,氨
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