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含肉桂基的光敏聚酰亚胺光刻工艺的研究
含肉桂基的光敏聚酰亚胺光刻工艺的研究
来源 :河北工学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fano
【摘 要】
:
本文对于含肉桂基的光敏聚酰亚胺光刻胶的适宜光刻工艺条件,诸如:光刻胶的配制、甩胶涂布、前烘、曝光、超声显影、淋洗、后烘与亚胺化等,进行了确定。研究结果表明,这种含肉
【作 者】
:
李佐邦
王立新
【机 构】
:
河北工学院化工系,河北工学院化工系
【出 处】
:
河北工学院学报
【发表日期】
:
1991年3期
【关键词】
:
聚酰亚胺
光刻胶
肉桂基
光敏特性
PolyimideCinnamyl groupPhotoresistPhotolithographicprocessUltr
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本文对于含肉桂基的光敏聚酰亚胺光刻胶的适宜光刻工艺条件,诸如:光刻胶的配制、甩胶涂布、前烘、曝光、超声显影、淋洗、后烘与亚胺化等,进行了确定。研究结果表明,这种含肉桂基的光刻胶具有优良的耐热性与适宜的光敏特性。
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