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国内首台拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白。芯硕半导体公司透露，芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势，分辨率已达到0．65微米。
国内首台自主研发“光刻机”在合肥面世
【摘 要】
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国内首台拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白。芯硕
【出 处】
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中国科技投资
【发表日期】
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2008年3期
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