【摘 要】
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采用蒙特卡罗方法对中子成像系统空间分辨率产生重要影响的三个参数（入射中子能量、样品靶与源的距离和探测器与样品靶的距离）进行了模拟研究。利用Geant4模拟计算得到了快中子
【机 构】
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中国科学技术大学近代物理系,合肥电子工程学院404室
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采用蒙特卡罗方法对中子成像系统空间分辨率产生重要影响的三个参数（入射中子能量、样品靶与源的距离和探测器与样品靶的距离）进行了模拟研究。利用Geant4模拟计算得到了快中子照射下,调制传递函数随上述参数的变化曲线,这三个参数的选择对成像性能的优化有着很大的指导意义。同时,通过模拟还分析了利用铅隔离层抑制串扰在中子成像中的可行性。研究结果表明,选择合适的铅层厚度在一定程度上提高图像质量,这些结果可为实际工作中的参数选择提供参考。
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