磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

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采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNx薄膜,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量。研究了氮分压对薄膜成分,相组成和力学性能的影响。结果表明,随氮分压的升高,薄膜的沉积速率明显降低,薄膜中的氮含量量增加,相应地,相组成从Cr+Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N+CrN过渡到单相CrN,并在Cr:N原子比为1:2和1:1时,薄膜的硬度出现极值(HV27.1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高
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