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低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4薄膜
低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4薄膜
来源 :材料科学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:martelfeng
【摘 要】
:
用光-CVD 技术,在100—200℃的温度下,在 Si 片上淀积出了 Si3N4薄膜。本文研究了薄膜淀积速率与淀积参数的关系,讨论了淀积的 Si3N4薄膜的物理性质、化学性质和力学性质。
【作 者】
:
景俊海
孙青
付俊兴
孙建成
【机 构】
:
西安电子科技大学,西安电子科技大学,西安电子科技大学,西安电子科技大学
【出 处】
:
材料科学进展
【发表日期】
:
1991年03期
【关键词】
:
低温
Hg 敏化
光化学气相淀积
Si3N4
薄膜
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用光-CVD 技术,在100—200℃的温度下,在 Si 片上淀积出了 Si
3
N
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薄膜。本文研究了薄膜淀积速率与淀积参数的关系,讨论了淀积的 Si
3
N
4
薄膜的物理性质、化学性质和力学性质。
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