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光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道
光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rui_lucky
【摘 要】
:
在不久前召开的SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术
【作 者】
:
Aaron Hand
【机 构】
:
SemiconductorInternational责任编辑
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2006年7期
【关键词】
:
微光刻技术
掩膜技术
浸没式
国际光学工程学会
厂商
圆桌会议
SPIE
发展趋势
膜工艺
制造商
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在不久前召开的SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议的中心话题为光掩膜制造商是沉是浮?
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