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电镀铜是获得电解铜箔的主要方法。围绕粗糙度的形成机理,重点阐述了添加剂、电流密度、硫酸铜和硫酸对铜镀层表面粗糙度形成的影响规律,对未来电镀铜工业向高端方向发展有着重要意义。
电镀铜层表面粗糙度的形成机理及影响因素研究
【摘 要】
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电镀铜是获得电解铜箔的主要方法。围绕粗糙度的形成机理,重点阐述了添加剂、电流密度、硫酸铜和硫酸对铜镀层表面粗糙度形成的影响规律,对未来电镀铜工业向高端方向发展有着
【机 构】
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江西理工大学冶金与化学工程学院; 浙江巨化股份有限公司电化厂;
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2018年04期
【基金项目】
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国家自然科学基金(21406097和51304085);中国博士后基金(2016M592118);江西省教育厅基金(GJJ150668);江西省博士后基金(2015KY11和2015RC17)资助
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