【摘 要】
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Reactions of atoms and molecules on chamber walls in contact with low temperature plasmas are important in various technological applications.Plasmasurface inte
【机 构】
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IMEC, 3001 Leuven, Belgium
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Reactions of atoms and molecules on chamber walls in contact with low temperature plasmas are important in various technological applications.Plasmasurface interactions are complex and relatively poorly understood.Experiments performed over the last decade by several groups prove that interactions of reactive species with relevant plasma-facing materials are characterized by distributions of adsorption energy and reactivity.In this paper,we develop a kinetic Monte Carlo (KMC) model that can effectively handle chemical kinetics on such heterogenous surfaces.Using this model,we analyse published adsorption-desorption kinetics of chlorine molecules and recombination of oxygen atoms on rotating substrates as a test case for the KMC model.
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