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用电阻热蒸法在玻璃基底上沉积铜薄膜,然后在空气中退火得到铜氧化物薄膜。分别用XRD、AFM、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征,研究退火温度及退火时间对铜氧化物薄膜结构和光学性能的影响。结果表明140~180℃退火时可以得到纯的Cu2O,薄膜表面颗粒大小在0.80~0.90μm之间,直接禁带宽度在1.8~2.5e V之间。