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本文报道聚合物基质中四—对甲氧基苯基叶吩在液氦温度下的持久性光谱烧孔。考察了光谱孔的功率饱和与功率加宽效应。测量了成孔的动力学过程和光致擦除规律。对实验结果进行了拟合计算和讨论。
聚合物基质中TMP分子的光谱烧孔特性研究
【摘 要】
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本文报道聚合物基质中四—对甲氧基苯基叶吩在液氦温度下的持久性光谱烧孔。考察了光谱孔的功率饱和与功率加宽效应。测量了成孔的动力学过程和光致擦除规律。对实验结果进行了拟合计算和讨论。
【机 构】
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复旦大学物理系,上海200433上海交通大学应用化学系,上海200030
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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1993年20期
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