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介绍了一种利用自发的化学过程在铜膜上选择性地沉积铂的方法。铂膜被沉积在非常薄的（厚度小于30nm）铜膜上。同时介绍了化学镀液和膜层结构。该工艺可应用于逻辑器件、存储器件和光电器件的加工上。
铜基体上化学镀铂
【摘 要】
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介绍了一种利用自发的化学过程在铜膜上选择性地沉积铂的方法。铂膜被沉积在非常薄的（厚度小于30nm）铜膜上。同时介绍了化学镀液和膜层结构。该工艺可应用于逻辑器件、存储器件
【出 处】
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电镀与环保
【发表日期】
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2012年4期
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